대한안과학회 제109회 학술대회 발표 연제 초록
 
발표일자: 2013년 04월 20일 (토)
발표시간: 14:30~14:37
발표번호: 소아F-001
발표장소: D방
마취심도에 따른 안구위치 변화
아주대학교 의과대학 안과학교실(1), 연세대학교 의과대학 안과학교실(2)
장세란(1), 박수연(1), 국경훈(1), 이종복(2), 정승아(1)
목적 : 대뇌피질 뇌파로 마취 깊이를 정량화하는 이중분광지수를 이용하여 마취심도에 따른 안구위치 변화를 알아보고자 하였다.방법 : 덧눈꺼풀을 제외한 이상소견이 없는 건강한 환아를 대상으로 전신마취하 덧눈꺼풀교정술 중 비디오촬영을 하여 안구위치를 측정하고, 이중분광지수와의 관계를 분석하였다.결과 : 평균 5.4세인 32명이 특이사항 없이 수술 받았다. 흡입마취제 농도와 이중분광지수는 강한 음의 상관관계를 보였고, 이중분광지수가 높을수록 안구는 위로 편위되었다(P=0.011). 이중분광지수가 36~45 범위에 있을 경우 각막의 수평장축이 내안각과 가장 가까웠다. 이중분광지수가 66이상이면 45이하인 경우에 비해 안구가 의미 있게 위로 편위되었다(P=0.005). 하지만 이중분광지수의 변화량과 안구위치 변화량 사이에는 상관관계가 없었다. 결론 : 이중분광지수로 측정된 마취심도는 마취 중 안구위치를 예측하는데 도움을 줄 수 있을 것으로 생각된다. 하지만, 마취 중 안구위치의 변화를 반영하기에는 한계가 있었다.